Quorum系列鍍膜儀選型指導(含Plus版本鍍膜儀)：

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Quorum離子濺射鍍膜儀和SEM/TEM應用鍍碳儀之選擇指南

Q Plus系列鍍膜儀是英國Quorum享譽和市場的系列離子濺射和碳鍍膜儀的版本。它們越來越多地用于高分辨率顯微分析技術中，超精細鍍膜是該領域必需的制樣工藝。

濺射鍍膜是在掃描電鏡（SEM）觀察之前對不導電或導電不良樣品進行制備的標準方法。Quorum既提供經濟的旋轉機械泵濺射鍍膜儀，用于沉積金（Au）和鉑（Pt）等不氧化貴金屬，也提供渦輪分子泵版本的鍍膜儀，氧化（如：鉻Cr）和不氧化金屬均可沉積。

為了進一步改善超精細鍍膜層，Quorum推出了的Q150V Plus系列鍍膜儀，其極限真空度可達1 x 10^-6mbar，以便獲得更加的鍍膜效果。

大腔室濺射鍍膜儀可用于直徑達200 mm的大樣品鍍膜。大多數Quorum鍍膜儀也可通過選用易互換的碳棒或碳繩鍍膜頭配置為碳蒸發鍍膜儀。

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電鏡和薄膜應用的鍍膜儀快速概覽

Q150V Plus系列3個型號鍍膜儀適用于高真空應用。這一新產品為用戶提供了為超高分辨率應用（放大倍率超過x 200k）制作更細成膜顆粒和更薄膜層的能力。

Q150T Plus系列3個型號鍍膜儀適用于掃描電鏡、透射電鏡和許多薄膜應用。

旋轉機械泵抽真空的Q150R Plus系列3個型號鍍膜儀適用于使用不氧化貴金屬鍍膜的鎢燈絲掃描電鏡及部分場發射電鏡的應用，以及用于為EDS和WDS分析制備碳膜的SEM樣品。

對于較大的樣品，可選用Q300T T Plus渦輪分子泵高真空鍍膜儀，允許在8”/200 mm以下的單個大樣品（例如晶圓）或類似直徑范圍內放置多個較小樣品進行鍍膜。三個濺射頭配裝相同的靶材，以確保均勻的大面積沉積鍍膜。

對于薄膜應用，Q300T D Plus雙靶順序濺射鍍膜儀是一個很好的選擇，它允許連續濺射不同靶材鍍制2層或多層金屬膜，且期間無需破真空。

Q150GB是Q150T ES Plus鍍膜儀的模塊化版本，目的是集成到手套箱中。

SC7620是一款結構緊湊的經濟型掃描電鏡離子濺射鍍膜儀，可選碳繩蒸發附件。

臺式真空熱蒸發鍍膜儀

高真空條件下熱蒸發鍍膜是一種沉積鍍制金屬和碳薄膜的常用方法，其典型應用包括透射電鏡（TEM）和許多薄膜研究所需的碳支撐膜和復形膜的制作。K975X渦輪泵熱蒸發鍍膜儀是一個大腔室系統，標配碳棒槍和金屬絲/舟蒸發源。

作為成功的Q系列濺射/碳鍍膜儀家族的一員，Q300T ES Plus是一個大腔室渦輪分子泵抽真空的鍍膜系統，非常適合在大直徑樣品或多個較小試樣上進行金屬蒸發鍍膜，Q300T ES Plus還配備了可互換的濺射頭和碳蒸發頭。