AMOLF Albert Polman組創新研發ARC（angle-resolved cathodoluminescence）技術，因此榮獲2014年MRS大獎。后該技術由荷蘭Delmic公司重新設計并商用，并命名為SPARC。

SPARC系統是一種高性能陰極發光收集和檢測系統。 該系統的*之處在于其易用性和兼容性，可以在任何SEM上進行加裝。 憑借的高精度鏡面帶來的超高靈敏度和易用性將陰極發光應用提高到一個新的水平。

SPARC也是具有角度分辨模式的陰極發光檢測系統，可實現快速，高靈敏探測納米級光學特性和材料特征，主要應用于納米光學，材料科學和地質學研究。SPARC開辟了全新的高階應用，如納米光子學，表面等離激元，光伏電池，納米天線等領域。

研究

全面表征樣品特性

SPARC是研究納米級光譜信息的理想平臺。系統集成加裝在SEM上，讓您能夠輕松實現陰極發光成像，以及與SEM其他探測結果的關聯，如EBSD電子背散射衍射，EBIC和BSD，全面表征您的樣品，獲得更多信息。

與SEM無縫集成

系統無干涉安裝在SEM提供的真空端口上，內部收集鏡可電動回退。恢復電鏡到原始狀態異常簡單輕松， 您只需要操作軟件，點擊拋物鏡回退功能即可。整個過程不到五分鐘，就可*恢復SEM到其原始狀態。

半拋物鏡自動回退演示

成像模式

快速光強掃描

快速模擬量光電倍增管PMT檢測，可用于大規模快速成像。對于大面積樣品快速檢測，非常適合地質領域的應用、超快器件的研究和感興趣區域的快速定位。內置濾波片轉輪，可根據需要配置和篩選頻譜。

角分辨解析光譜成像

SPARC提供非常*的角分辨解析圖像。與常規通過光纖或狹窄開口耦合光線不同，大面積半拋物反射鏡直接耦合反射到成像照相機，大幅度提高光子收集特別的是， 系統還能檢測光的發射方向性，也常被稱為瞬間光譜。在這種模式下，調整使用濾光片轉輪上特定濾波片用于選擇需要的波長。

高譜像

當SPARC系統運行在光譜模式下，從反射鏡傳遞來的光聚焦在光柵或柴爾尼 - 特納攝譜儀成像。不同的成像探測器可以覆蓋200nm-1600nm的光譜范圍。通過電子束掃描整個樣品，就可以得到高空間分辨率的光譜圖像。

陰極發光偏振圖像

在角度分辨模式使用偏振片或偏光計，SPARC系統可以對不同發射角度的光進行極性狀態重構。*的光學系統自動校準包括半拋物反射鏡的對準的校驗，對于極性狀態重構是最最關鍵的一環。SPARC提供完整的系統自動校準功能。

友好用戶交互

Odemis 軟件

模塊化設計加上開源的ODEMIS軟件， 我們提供友好交互解決方案以服務廣泛的用戶類型。 我們提供系統化解決方案，實現真正根據應用需求定制化的*的系統，充分滿足科學家不同的需求。

軟件特點

強大的軟件功能，比如圖像自動峰值校準，即時極性制圖、圖像到處和漂移校正等，提高您圖像采集的效率和質量。開源程序使用Python語言編寫， 專家用戶可以自己二次開發全面定制屬于自己的圖像算法和硬件控制。