研究型暗場工業顯微鏡JXM-3530研究型JXM-3530是一種多用途工業檢驗用光學儀器，配置明/暗場物鏡、大視野目鏡與偏光觀察裝置，透反射照明采用“柯勒"照明系統，視場清晰。可用于半導體硅晶片、LCD基板、電路板、固體粉未及其它各種透明或不透明工業試樣的檢驗，是生物學、金屬學、礦物學、精密工程學、電子工程學等研究的理想儀器.
研究型暗場工業顯微鏡JXM-3530
研究型暗場工業顯微鏡JXM-3530是一種多用途工業檢驗用光學儀器，配置明/暗場物鏡、大視野目鏡與偏光觀察裝置，
透反射照明采用“柯勒”照明系統，視場清晰。可用于半導體硅晶片、LCD基板、電路板、固體粉未及其它各種透明或不透明工業
試樣的檢驗，是生物學、金屬學、礦物學、精密工程學、電子工程學等研究的理想儀器.
性能特點
▲ 采用無限遠光學系統及模塊化功能設計。
▲ 長工作距離明/暗視場平場物鏡，視場大而清晰。
▲ 廣角平場目鏡：視場直徑Ф
▲ 粗微動同軸調焦機構，粗動松緊可調，帶限位鎖緊裝置，微動格值:2μm。
▲ 內置式可切換偏光觀察裝置，起偏器可360°旋轉。
▲ 上光源采用翻蓋式12V50W鹵素燈箱，更換燈炮安全便捷，下光源采用12V30W鹵素燈，加裝散熱片。
▲ 三目鏡筒可自由切換目視觀察與顯微攝影，攝影時可99%通光，適合暗視場顯微圖像拍攝。
標準配置
目鏡
| 類 型 | 放大倍數 | 視場（mm） | 備注 |
| 超大視野目鏡 | 10X | Φ22 | |
| 平場分劃目鏡 | 10X | Φ22 | 格值： |
.物鏡
| 類 型 | 放大倍數 | 數值孔徑NA | 工作距離 |
| 無限遠長工作距離平場消色差明/暗視場物鏡（無蓋玻片） | 5X | 0.12 | 9.7 |
| 10X | 0.25 | 9.3 | |
| 20X | 0.40 | 7.2 | |
| 40X | 0.60 | 3.0 | |
| 50X | 0.75 | 2.5 | |
| 80X | 0.80 | 1.25 |
目鏡筒 三目鏡,傾斜30?,（內置檢偏振片,可進行切換）
落射照明系統 12V 50W鹵素燈,亮度可調
內置視場光闌、孔徑光闌、濾色片轉換裝置，推拉式檢偏器與起偏器
調焦機構 粗微動同軸調焦, 微動格值:2μm,帶鎖緊和限位裝置
轉換器 五孔（內向式滾珠內定位）
載物臺 雙層機械移動式（尺寸:210mmX
透射照明系統 阿貝聚光鏡 N
藍濾色片和磨砂玻璃
集光器，鹵素燈照明適用（內置視場光欄）
12V 30W 鹵素燈,亮度可調
系統組成：顯微鏡主機，適配鏡，300萬像素成像系統，操作軟件，附送進口IPP軟件
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