蔡司公司推出Sigma300場發射掃描電鏡采用成熟的GEMINI光學系統設計，將低電壓成像技術發揮到了很大，采用適宜的探針電流范圍，降低50%的信噪比從而提升了85%的襯度信息。Sigma300將高級的分析性能與場發射掃描技術相結合，多種探測器可選：用于顆粒、表面或者納米結構成像。Sigma自動的四步工作流程節省了設置與分析操作的時間，提高效率。
用于清晰成像的靈活探測：
◆利用探測術為您的需求定制 Sigma，表征所有樣品。
◆利用 in-lens 雙探測器獲取形貌和成份信息。
◆利用新一代的二次探測器，獲取高達50%的信號圖像。在可變壓力模式下利用 Sigma 創新的 C2D 和 可變壓力探測器，在低真空環境下獲取高達85%對比度的銳利的圖像。
自動化加速工作流程：
◆4步工作流程讓您控制 Sigma 的所有功能。在多用戶環境中，從快速成像和節省培訓首先，先對樣品進行導航，然后設置成像條件。
◆首先，先對樣品進行導航，然后設置成像條件。
◆接下來對樣品感興趣的區域進行優化并自動采集圖像。最后使用工作流程的步，將結果可視化。
高級分析型顯微鏡：
◆將掃描電子顯微鏡與基本分析相結合：Sigma 的背散射幾何探測器大大提升了分析性能，特別是對電子束敏感的樣品。
◆在一半的檢測束流和兩倍的速度條件下獲取分析數據。
◆8.5 mm 短的分析工作距離和35°夾角，獲取完整且無陰影的分析結果。
靈活的檢測器選項，獲取清晰圖像：
◆使用新穎的ETSE和Inlens探測器在高真空下獲取高分辨率表面形貌信息。
◆使用VPSE或C2D檢測器在可變壓力模式下獲得清晰圖像。
◆使用aSTEM檢測器生成高分辨率透射圖像。
◆使用HDBSD或YAG檢測器分析成分。
技術參數：
| 分辨率： | 1.0nm@30kV STEM | 1.0nm @15 kV | 1.8nm @1kV |
| 加速電壓 | 0.02—30KV | ||
| 放大倍數 | 10—1000000x | ||
| 探針電流 | 調整范圍：0.02-30 kV（無需減速模式實現） | ||
| X-射線分析工作距離 | 8.5mm 35度接收角 | ||
| 低真空壓力范圍 | 2-133Pa （Sigma 300VP可用） | ||
| 工作室 | 365 mm（φ），275mm（h） | ||
| 5軸優中心自動樣品臺 | X=125mm Y=125mm Z=50mm T=-10°- 90°R=360°連續 | ||
| 系統控制 | 基于Windows 7 的SmartSEM操作系統 | ||
| 存儲分辨率 | 32,000 x 24,000 pixels | ||
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