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碳納米管CVD設(shè)備

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碳納米管納米CVD系統(tǒng)

  
產(chǎn)品簡(jiǎn)介:
   
 nanoCVD-8N型碳納米管CVD系統(tǒng)是英國(guó)MOORFIELD公司與英國(guó)曼徹斯特大學(xué)“諾貝爾獎(jiǎng)”石墨烯團(tuán)隊(duì)共同開發(fā)的一款專門生長(zhǎng)高質(zhì)量單壁碳納米管的科研型桌面式CVD系統(tǒng),該系統(tǒng)采用的“冷壁技術(shù)”生長(zhǎng)單壁碳納米管,典型的直徑為0.7-1.2nm,具有生長(zhǎng)速度快,質(zhì)量高,重復(fù)性好,耗量少,無污染的優(yōu)點(diǎn),有多篇Science 與Nature的文章里都采用了該設(shè)備,是制備高質(zhì)量碳納米管科研用戶的理想選擇。

  產(chǎn)品特性:

   ? 采用的冷壁技術(shù)與*的加熱臺(tái)設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)單壁碳納米管高重復(fù)性生長(zhǎng)。

   ? 超緊湊的桌面式設(shè)計(jì) 

   ? 裝樣簡(jiǎn)單:采用滑竿推拉門與加熱臺(tái)聯(lián)動(dòng)組件

   ? 大樣片尺寸:20 mm×40 mm

   ? 加熱單元:低熱載,高加熱率,溫度1100℃,熱電偶溫度實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)溫度;

   ? 全自動(dòng)壓力控制;

   ? 三路氣體配帶質(zhì)量流量控制裝置(甲烷,氬氣,氫氣);

   ? 生產(chǎn)時(shí)間短:一次完整生長(zhǎng)流程時(shí)間小于30分鐘;

   ? 觸摸式液晶觸摸屏界面可自設(shè)和存儲(chǔ)多達(dá)30個(gè)生長(zhǎng)流程,生長(zhǎng)條件精確控制,可重復(fù)生成制備單壁碳納米管;

   ? 聯(lián)機(jī)數(shù)據(jù)采集,生長(zhǎng)流程全自動(dòng)控制;

   ? 系統(tǒng)維護(hù)便捷方便,壓力、氣體流量和溫度參數(shù)連鎖確保使用安全。

   生產(chǎn)體系:

   ? 基底:SiO2/Si, Al2O3/Si and Si3N4

   ? 催化劑:Fe, Co and Ni, films or dispersed nanoparticles

   ? 原料:Ethanol, CH4, C2H4 and C2H2

采用不同的合成工藝統(tǒng),不同的材料,基底與催化劑,nanoCVD-8N可合成的碳納米管主要有三種形式:

  ?  Random: Multiply interconnected SWNTs

  ?  Aligned: Paralell SWNTs

  ? ‘Forests’: Vertically stacked SWNTs

   實(shí)例:


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